一、反应烧结法  

 

采用一般的成型方法，先将硅粉压制成所需形状的坯体，然后将坯体放入氮化炉中进行预氮化(部分氮化)烧结处理，预氮化后的坯体具有一定的强度，可以进行各种机械加工(如车、刨、铣、钻)。然后，温度高于硅的熔点；再次将生坯完全氮化烧结，得到尺寸变化小的产品(即烧结后收缩率很小，线收缩率小于0.11%)，无需研磨即可使用。反应烧结法适用于制造形状复杂、尺寸精密的零件，成本低，但渗氮时间长。  

 

二、热压烧结法  

 

热压烧结氮化硅制品的力学性能优于反应烧结氮化硅制品，具有高强度和高密度。但是，制造成本高，烧结设备复杂。由于烧结体的收缩率较大，产品的尺寸精度受到一定程度的限制。复杂的零件很难制造，只有简单的零件和产品，工件的加工也很困难。  

 

三、常压烧结  

 

在提高烧结氮气氛压力方面，提高Si3N4的分解温度(通常，在N2=1atm下，分解开始于1800)，然后在1700-1800进行烧结，然后在1800-2000进行气压烧结。这种方法的目的是利用气压促进Si3N4陶瓷的致密化，从而提高陶瓷的强度。所得产品的性能略低于热压烧结所得产品。这种方法的缺点类似于热压烧结。  

 

四、气压烧结法  

 

近年来，人们对气压烧结进行了大量的研究，并取得了很大的进展。然后钧杰陶瓷将在这里分享给大家。那我下面就没总结了。气压烧结中的氮化硅是在1~10兆帕的压力和2000左右的温度下进行的。高氮压抑制了氮化硅的热解，使用高温烧结可以用较少的烧结助剂促进Si3N4晶粒的生长，从而获得含有原位生长的长柱状晶粒的高韧性陶瓷，其密度大于99%。因此，气压烧结在实验室和生产中受到越来越多的关注。气压烧结氮化硅制品具有高韧性、高强度和良好的耐磨性。它可以直接生产各种接近后来形状的复杂形状的产品，从而大大降低了生产成本和加工成本，其生产工艺接近硬质合金，适合大规模生产。